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南京清竹表面处理添加剂经
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HA-Ⅰ硬铬电镀工艺
(HA高效镀铬添加剂工艺)
一 特点
1、高阴极电流效率,可达22~27%。
2、高沉积速度,一般是传统镀铬的2~3倍。
3、不会腐蚀阴极低电流密度区的底材。
4、镀层平滑,细致光亮。
5、高镀层硬度达HV900~1200。
6、高微裂纹数达1000条/寸。
7、镀层厚度均匀,有良好的分散能力。
8、镀液维护容易,控制简单。
9、无固体添加之铬尘和溅水现象。
10、无阳极腐蚀,勿需使用特殊阳极。
二、镀液配方和操作条件
成份及物理参数 范围 标准
铬酐 220~275克/升 250克/升
硫酸 2.4~4.0克/升 2.5克/升
温度 58~68 62℃
阴极电流密度 15~75 A/分米2 60A/分米2
阳极电流密度 15~35A/分米2 30A/分米2
三、镀液的配制
铬酐浓度 HA—IQ
CrO3 250克/升 20ml/l
1、在槽中放入2/3体积的水,加入计算好的铬酸、硫酸,并充分搅化。
2、按上表所需的HA—ⅠQ加入镀槽中。
3、添加去离子水,至所需之液位高度。
4、加热至55~60℃。
5、分析硫酸浓度,并调整至工艺规范。
6、电解4~6小时。
7、开始作业。
四、沉积速率(参考)
电流密度(安培/平方分米) 沉积速率(微米/小时)
30 20~30
45 40~50
60 50~70
75 70~90
注:沉积速率会随温度降低而稍微上升,但是光亮范围会相对变窄。
五、转缸与前处理
由一般传统的硬铬镀液转为HA—I的程序非常简单,只须将镀液送交本公司化验,经确定无机杂质不超过7.5克/升,同时不含氟化物、稀土,则本公司将协助客户将镀液转成HA-I之工艺。
HA—I之前处理与一般传统硬铬电镀相同,无需经过特殊程序的处理。
六、设备
镀槽(缸):铁槽内衬软式PVC槽衬或其他认可材料如Koroseal均可。
阳 极:含7%锡的铅阳极,其他如铅锡、铅锑阳极亦可使用。
整 流 器 :输出功率须可达到9~15伏特较为适当,同时输出电流之波纹应在5%以下。
温度控制 :热交换器或冷却盘管,建议使用钛管或金属管披覆铁弗龙(Teflon)或碳氟化物(PVDF)为佳。
循环搅拌:良好的镀液循环,可促进镀液中化学成分和热分布均匀,循环过滤机材料建议使用不锈钢或适当的防腐蚀塑料。
七、添加剂的作用与补给
HA—Ⅰ(补)以每1000安培小时6毫升补加,溶液蒸发量大,带出量大补加偏高,
反之偏低。
铬酸以每1000安培小时添加120~150克.。
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